微影技术的研发已进展至极短波长的超紫外光(EUV)，来自美国马里兰大学(University of Maryland)的研究团队则提出一种多光子光阻剂(multi-photon photoresists)，能让可见光微影达到纳米等级的分辨率；通常微影分辨率是与曝光时间成反比。

　　“大多数达到高分辨率微影的方法，都是与采用更短波长的光源有关；”马里兰大学教授John Fourkas表示：“我们的目标是以可见光产出纳米级的微影效果。”该团队新开发的多光子技术简称 RAPID (Resolution Augmentation through Photo-Induced Deactivation，透过光致去活化达到的分辨率强化方法)，以一道激光在光阻剂中启动曝光，然后加入第二道激光来完成整个程序，仅在两个聚焦光束重迭的纳米等级范围内进行完全曝光。

　　Fourkas指出：“只要我们用一道激光并透过显微镜物镜来进行聚焦，我们就能把吸收作用(absorption)局限在激光聚焦体积的微小区域中。”研究人员已经就芯片上3D材料的选择性聚合作用(selective polymerization)，将该技术优化；利用一种“多光子吸收聚合作用(Multi-photon Absorption Polymerization，MAP)”，研究团队在芯片上制作出了微小的电感。

　　RAPID则是后续的工作，利用光阻剂的多光子吸收作用，来达成聚焦可见光微影的纳米等级分辨率，可望延缓甚至可能免除采用超紫外光源的需要。

 　这种技术适用于标准的大气压力条件，不像深紫外光需要在真空中操作；该光阻剂中特有的光启动程序(photo-initiator)是由一道激光所活化，然后再被第二道激光去活化，证实了研究人员称之为PROVE (proportional velocity)的现象，也就是更高的曝光度可产出更小的特征尺寸。